Одногруповий силіконовий миючий засіб JH-1017

1. короткий
Продукція Junhe Type-1017 є однокомпонентною продукцією, яка складається переважно з калієвої солі, інгібітора корозії, комплексоутворювача, миючого засобу та поверхнево-активної речовини шляхом полімеризації.Гідроксид калію х.ч. забезпечує лужність омилення.Інгібітор полімеризаційної корозії, комплексоутворювач, миючий засіб і поверхнево-активна речовина забезпечують очищення.Цей продукт має дуже хороші показники в емульгуванні, омиленні та очищенні тваринної олії, рослинної олії, мінеральної олії, суспензії та шліфувальної пасти.Він має сильний очищаючий, комплексоутворюючий і очищаючий ефект на іони металів.Очищення масла становить 99% як виявлення.Ефект видалення, комплексування та очищення іонів міді, заліза та інших металів.Тим часом продукти Junhe Type-1017 не містять фосфатів, кальцію, магнію, заліза, міді, свинцю та інших шкідливих іонів металевого кремнію та відповідають вимогам ЄС ROHS з хорошим захистом навколишнього середовища та сильною очисною здатністю.

2. особливість
1) Продукти Junhe Type-1017 — це однокомпонентні продукти високої концентрації, які можна безперервно додавати за допомогою автоматичного насоса на автоматичній лінії.
2) Не містить фосфору та відповідає вимогам щодо захисту навколишнього середовища ЄС ROHS.
3) Це свого роду продукт з низьким вмістом піни, і його можна використовувати в лінії розпилення та ультразвуку без переповнення піною.
4) Вміст іонів металу не перевищує 50 ppm, за винятком іонів калію та натрію, і він може відповідати вимогам ІТ щодо високої точності.
5) хороша продуктивність знежирення для задоволення вимог високої точності ІТ-сфери.

3. використання інструкції
1) спочатку додайте 3/4 чистої води в бачок для очищення.
2) якщо він використовується в ручній лінії, пропонується додати 5~10 кг засобу для чищення силіконових стружок Junhe Type-1016 на 1000 літрів рідини в резервуарі.Під час очищення полірувальної та шліфувальної пасти кремнієвої стружки та кремнієвої стружки, вирізаної за допомогою відновлювальної суспензії, слід додати більше доз протягом 8 годин після зміни відповідно до специфікацій кожної компанії.Звичайно, зменшуйте дози, зберігаючи вихід кремнієвих мікросхем.
3) У разі безперервного додавання в автоматичну лінію відкрийте резервуар із 1~2 кг засобу для очищення силіконової стружки Junhe Type-1017 на 100 літрів рідини в резервуарі та контролюйте безперервне додавання відповідно до кількості очищення кремнієвої стружки в автоматичній лінії.Для кращого ефекту очищення рекомендується міняти кожні 1-3 зміни.
4) Як правило, кожен кілограм засобу для чищення кремнієвих мікросхем Junhe Type-1017 може очистити понад 1000 кремнієвих мікросхем 125# монокристалічних кремнієвих мікросхем.Додайте відповідно до цієї пропорції.При очищенні полірувальної та шліфувальної пасти кремнієвий чіп і кремнієвий чіп, вирізаний відновлювальною суспензією, слід додати більше доз.Звичайно, зменшуйте дози, зберігаючи вихід кремнієвих мікросхем.
5) Потім додайте чисту воду до робочого рівня та нагрійте до необхідної температури, а потім можете використовувати.
6) Силіконовий чіп під час чищення слід відкривати якомога рідше, щоб запобігти утворенню частинок квітки.

4. примітки
1) Кристалічний стрижень не можна змочувати після лінійного різання.Якщо його не можна очистити вчасно, його краще помістити в суспензію або очисний засіб (повністю занурити)
2) Після того, як кристалічний стрижень після лінійного різання очищено, з ним слід негайно впоратися.Під час очищення силіконовий чіп не можна висихати природним шляхом.
3) Силіконовий чіп повинен бути вологим під час дегумування та не повинен висихати природним шляхом.
4) Закрийте перемикач піноутворення під час ультразвукового очищення резервуару 1 і 2. Після того, як ви перебуваєте на полицях, відкрийте піноутворення та в основному уникайте утворення фрагментів.
5) після завершення кожного циклу очищення (наприклад, зміни зміни) ретельно міняйте резервуари для чистої води в баку 5, баку 6, баку 7 і баку 8.
6) Персонал, який займається прибиранням, не може торкатися силіконового чіпа під час чищення та повинен одягати гумові рукавички на випадок відбитків пальців.
7) Щоб підтримувати чистоту силіконового чіпа, час очищення розпиленням перед дегумуванням слід контролювати протягом більше ніж 30 хвилин.
8) Якщо під час використання виникли такі проблеми, як забруднення чіпа та спалах, вчасно зв’яжіться з технічним персоналом.
9) Під час вивантаження продукту він потребує нейтралізації, флокуляції та седиментації та іншої простої обробки.Продукт не містить важких металів і ортофосфатів.