Опубліковано на 2017-10-24Відноситься до використання методу хімічного очищення та методу хімічних агентів для очищення пристрою.У процесі промислового виробництва через різні причини обладнання (типи башт, теплообмінників і резервуарів, а також різні реакційні котли) і трубопроводи, такі як полімери, кокс, нафта, бруд, накип, бруд, осад, продукти корозії та інші .
Виходячи з вищезазначених причин і ринкового попиту, наша компанія з 1998 року почала розробку металів і неметалів, PV, машин, автозапчастин та інших засобів для чищення.Основними продуктами є засіб для чищення металу, засіб для чищення сонячних пластин, засіб для чищення світлодіодів (LCD) і засіб для чищення блакитних дорогоцінних каменів.
Час публікації: 13 січня 2022 р